Skin1004 Madagascar Centella Ampoule Foam – пінка для вмивання з центеллою 20 мл (міні)

Пінка для вмивання з центеллою SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam 20 мл

SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam — м'яка пінка для щоденного очищення обличчя з фізіологічно комфортним рівнем pH 5. Формула на основі ПАР кокосового походження допомагає видаляти себум, повсякденні забруднення та залишки макіяжу без вираженого відчуття сухості та стягнутості. Мадагаскарська центела доповнює очищення заспокійливим доглядом, а лимонна кислота та гіалуронат натрію сприяють гладкості, зволоженню та комфортному стану шкіри після вмивання.

Основні властивості пінки для вмивання SKIN1004 Centella Ampoule Foam

Ефективно очищає поверхню обличчя від себуму, пилу та повсякденних забруднень

Має збалансований рівень pH 5, наближений до природного кислого середовища шкіри

Допомагає уникнути характерного відчуття пересушування та стягнутості після очищення

Заспокоює чутливу шкіру та підтримує її комфортний стан

Забезпечує делікатне відлущування поверхневих ороговілих клітин

Допомагає підтримувати водний баланс і м'якість після вмивання

Активні компоненти пінки для вмивання Madagascar Centella Ampoule Foam

Centella Asiatica Extract — екстракт мадагаскарської центелли з природними заспокійливими властивостями допомагає підтримувати збалансований і здоровий вигляд шкіри

Citric Acid — лимонна кислота належить до AHA та сприяє м'якому видаленню поверхневих ороговілих клітин і вирівнюванню текстури

Sodium Hyaluronate — низькомолекулярна форма гіалуронової кислоти допомагає притягувати й утримувати воду та підтримувати пружність

Бікарбонат натрію — дрібнодисперсний порошок соди допомагає видаляти надлишок себуму та накопичені забруднення

ПАР кокосового походження — забезпечують очищувальну дію, водночас допомагаючи зберігати природний баланс вологи

Кому підходить пінка для вмивання SKIN1004 Madagascar Centella

Нормальній шкірі для регулярного ранкового та вечірнього очищення

Чутливій шкірі, для якої важливе делікатне вмивання без агресивного знежирення

При схильності до відчуття сухості та стягнутості після використання очищувальних засобів

Шкірі, якій потрібне одночасне видалення надлишку себуму та підтримання комфортного рівня зволоженості

Тим, хто віддає перевагу засобам для очищення обличчя з низьким рівнем pH

Переваги пінки для вмивання Centella Ampoule Foam

Оптимальний pH 5. Формула розроблена з урахуванням природного кислого середовища поверхні шкіри

Насичена дрібна піна. Світло-коричнева кремова паста при контакті з водою перетворюється на густу ніжну піну, яка щільно контактує з поверхнею обличчя

Баланс очищення та комфорту. Засіб видаляє забруднення без характерного для агресивних очищувачів відчуття надмірного знежирення

Додаткове очищення від дрібнодисперсного пилу. За даними виробника, засіб видаляє до 92,69% дрібних частинок пилу

Компактний формат 20 мл. Мініверсію зручно брати в подорож, до спортзалу або використовувати для першого знайомства із засобом

Спосіб застосування пінки для вмивання SKIN1004 Centella Ampoule Foam

Нанесіть необхідну кількість засобу на вологі долоні та спіньте з водою. М'якими масажними рухами розподіліть отриману піну по обличчю, після чого ретельно змийте теплою водою.

Склад пінки для вмивання Madagascar Centella Ampoule Foam

Water, Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Centella Asiatica Extract, Potassium Cocoyl Glycinate, 1,2-Hexanediol, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Sodium Chloride, Butylene Glycol, Dextrin, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, динатрій ЕДТА, ацетат натрію, бікарбонат натрію, екстракт кореня Coptis Chinensis, гіалуронат натрію, екстракт плодів Coccinia Indica, екстракт Eclipta Prostrata.

Об'єм та форма випуску пінки для вмивання SKIN1004 Madagascar Centella

Об’єм: 20 мл

Тип засобу: пінка для вмивання

Текстура: кремова паста, що утворює густу дрібну піну

pH: 5

Лінійка: Madagascar Centella

Назва: Centella Ampoule Foam

Бренд: SKIN1004